Semiconductor

Vacuum Furnace VF-300

Mold Wafer 및 FAN-OUT용 진공 Anneal 설비

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Vacuum Furnace VF-300

Specifications

제품 사양

Temp Uniformity(Keep)

300mm SEMI STD-Notch type / FOUP 25·13 Wafers / 50 Wafer [Boat:50Slot]×2 Chamber

Ramp Up Rate

5℃/min

Down Rate

3℃/min

Base Vacuum

10 Torr

Process Pressure

50 Torr

Temp

~400℃ (MAX 500℃)

공정 O2 농도

10 ppm

공정 O2 농도 도달시간

20 min

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