Semiconductor

Vacuum Furnace VF-300

Mold WaferおよびFAN-OUT向けの真空Anneal設備です。

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Vacuum Furnace VF-300

Specifications

製品仕様

Temp Uniformity(Keep)

300mm SEMI STD-Notch type / FOUP 25·13 Wafers / 50 Wafer [Boat:50Slot]×2 Chamber

Ramp Up Rate

5℃/min

Down Rate

3℃/min

Base Vacuum

10 Torr

Process Pressure

50 Torr

Temp

~400℃ (MAX 500℃)

プロセスO2濃度

10 ppm

プロセスO2濃度到達時間

20 min

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