YESTは半導体・ディスプレイ伝熱装置の卓越したコア技術を基盤に、次世代工程のための新規装置を開発します。
平澤R&D Centerを中心に熱処理・精密環境制御・水電解(Water Electrolysis)分野の中核技術を蓄積し、
お客様のニーズに合った安全で高効率なソリューションを絶えず研究します。
原子層単位の薄膜成膜(ALD)から高圧Anneal・酸化まで、次世代半導体・ディスプレイ工程のための熱処理コア技術を研究します。
超低温チラーと湿度・圧力・真空の精密制御技術により、工程環境の均一性と安定性を確保します。
AEM方式水電解システムの効率と耐久性を高め、中小規模からMW級大容量までのスケールアップ技術を確保します。
素子の微細化が進むにつれ、高温での酸化膜成長およびAnneal進行時に発生するPattern Collapse・Warpageなどの副作用を制御するための装置です。
低い工程温度でも同等の効果を得るため、高圧で酸化およびAnnealを行います。
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02温度・圧力・流量・気化装置の精密制御により、原子層単位の薄膜を成膜(ALD)する次世代ファーネスを開発しています。
High-k誘電膜工程の均一性と安定性を確保し、先端半導体工程に対応します。
層間絶縁材(CCL Film)が塗布された基板に対し、微細な気泡を除去し表面を硬化する工程装置を研究します。
VOIDを最小化し接着強度を高め、ディスプレイ工程の品質と信頼性を向上させます。
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04AEM(陰イオン交換膜)方式水電解システムの効率と耐久性を高める研究を進め、
中小規模からMW級大容量までのスケールアップ技術を確保しています。
再生可能エネルギーと連携したグリーン水素生産により、カーボンニュートラルに備えます。
絶え間ない技術革新で
未来の工程標準をつくり上げます。
