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Oxide Furnace

用于氧化物TFT制造的大面积热处理设备

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Oxide Furnace

Specifications

产品规格

设定温度

300~400℃ (Max 500℃)

温度控制

相位/MIMO/Zero Crossing控制 (±2.5℃以内)

洁净度

Particle Free

适用工艺

Oxide TFT热处理

适用玻璃基板

~8代(8G)

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