YEST以半导体、显示器电热设备领域独有的核心技术为基础，开发面向下一代工艺的新设备。
以平泽R&D Center为中心，不断积累热处理、精密环境控制、水电解(Water Electrolysis)领域的核心技术，
持续研究契合客户需求的安全、高效解决方案。
从原子层薄膜沉积(ALD)到高压退火(Anneal)、氧化，研究面向下一代半导体、显示器工艺的热处理核心技术。
通过超低温冷水机与湿度、压力、真空的精密控制技术，确保工艺环境的均匀性与稳定性。
提升AEM方式水电解系统的效率与耐久性，确保从中小规模到MW级大容量的规模化技术。
随着器件微细化的加剧，本设备用于抑制高温下氧化膜生长及退火(Anneal)过程中产生的图形塌陷(Pattern Collapse)、翘曲(Warpage)等副作用。
为在更低的工艺温度下获得同等效果，在高压下进行氧化及退火(Anneal)。
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02通过对温度、压力、流量、汽化装置的精密控制，正在开发以原子层为单位沉积薄膜(ALD)的新一代炉体设备。
确保High-k介电膜工艺的均匀性与稳定性，以应对先进半导体工艺。
研究对涂覆有层间绝缘材料(CCL Film)的基板去除微小气泡并固化表面的工艺设备。
通过最大限度减少VOID并提高粘接强度，提升显示器工艺的质量与可靠性。
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04持续研究提升AEM(阴离子交换膜)方式水电解系统的效率与耐久性，
并确保从中小规模到MW级大容量的规模化技术。
通过与可再生能源联动的绿色氢能生产，为实现碳中和做好准备。
以永不止步的技术革新，
树立未来工艺的标准。
